半导体薄膜沉积设备发展分析报告( 23 页)

    2022-02-21

半导体薄膜沉积设备发展分析报告( 23 页)


目 录

1. 薄膜沉积是半导体工艺三大核心步骤之一.... 5

2. 多因素驱动国产薄膜沉积设备需求....... 7

3. 国内厂商错位发展,共同受益国产化率提升..... 9

4. 投资建议....... 12

风险提示...... 19

附录:薄膜沉积技术介绍..... 20

图表目录

图1:硅片制造工艺流程......5

图2:全球半导体设备及薄膜沉积市场规模(亿美元) ....5

图3:晶圆制造设备投资占比.......5

图4:薄膜沉积技术分类......6

图5:全球薄膜沉积设备市场结构-2020 .......6

图6:全球CVD 市场结构-2020 .......6

图7:国内晶圆制造环节扩产规划整理.....7

图8: CVD 工艺演变历程....8

图9: CVD 技术对比.......8

图10:逻辑芯片复杂度提升增加薄膜沉积工序数量.....8

图11:制程升级带动薄膜沉积设备需求数倍增长.....8

图12: 3D NAND 带动薄膜沉积工艺步骤增加.....9

图13: 3D NAND 堆叠层数增加催生薄膜沉积设备需求......9

图14:长江存储持续取得突破,带动国产薄膜沉积设备需求.......9

图15:全球薄膜沉积细分领域市场格局-2019 ....10

图16:国内主要晶圆制造产线设备招标统计(2020 年1 月1 日至2022 年02 月13 日).....10

图17:国内主要薄膜沉积厂商产品对比..... 11

图18: PECVD 为拓荆科技主要收入来源(单位:百万元) .....12

图19:拓荆科技研发持续高投入....12

图20:拓荆科技PECVD 设备一览....13

图21:拓荆科技ALD 设备一览......13

图22:拓荆科技SACVD 设备一览....14

图23:北方华创产品与应用分类....14

图24:北方华创营收持续快速增长....15

图25:北方华创研发持续高投入....15

图26:北方华创PVD 沉积设备分类......15

图27:北方华创CVD、ALD 沉积设备分类....16

图28:中微公司营业收入快速增长....17

图29:中微公司研发持续高投入....17

图30:中微公司MOCVD 设备一览.......18

图31:中微Prismo UniMax® MOCVD 设备......19

图32: CVD 传输和反应步骤图.....20

图33: LPCVD 反应流程图.......21

图34:等离子体辅助CVD 中膜的形成......21

图35: PECVD 反应系统流程图 .... 21

图36:各类CVD 反应技术及主要特点 ...... 21

图37: ALD 技术反应原理 ..... 22

图38:溅射技术反应原理图 ....... 22

图39: PVD、CVD 及 ALD 成膜效果简示 ..... 22

图40: CVD 和 PVD 技术对比 ...... 23


[报告关键词]:   薄膜沉积设备  
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