4. 投资建议....... 12
风险提示...... 19
图1:硅片制造工艺流程......5
图2:全球半导体设备及薄膜沉积市场规模(亿美元) ....5
图3:晶圆制造设备投资占比.......5
图4:薄膜沉积技术分类......6
图5:全球薄膜沉积设备市场结构-2020 .......6
图6:全球CVD 市场结构-2020 .......6
图7:国内晶圆制造环节扩产规划整理.....7
图8: CVD 工艺演变历程....8
图9: CVD 技术对比.......8
图10:逻辑芯片复杂度提升增加薄膜沉积工序数量.....8
图11:制程升级带动薄膜沉积设备需求数倍增长.....8
图12: 3D NAND 带动薄膜沉积工艺步骤增加.....9
图13: 3D NAND 堆叠层数增加催生薄膜沉积设备需求......9
图14:长江存储持续取得突破,带动国产薄膜沉积设备需求.......9
图15:全球薄膜沉积细分领域市场格局-2019 ....10
图16:国内主要晶圆制造产线设备招标统计(2020 年1 月1 日至2022 年02 月13 日).....10
图17:国内主要薄膜沉积厂商产品对比..... 11
图18: PECVD 为拓荆科技主要收入来源(单位:百万元) .....12
图19:拓荆科技研发持续高投入....12
图20:拓荆科技PECVD 设备一览....13
图21:拓荆科技ALD 设备一览......13
图22:拓荆科技SACVD 设备一览....14
图23:北方华创产品与应用分类....14
图24:北方华创营收持续快速增长....15
图25:北方华创研发持续高投入....15
图26:北方华创PVD 沉积设备分类......15
图27:北方华创CVD、ALD 沉积设备分类....16
图28:中微公司营业收入快速增长....17
图29:中微公司研发持续高投入....17
图30:中微公司MOCVD 设备一览.......18
图31:中微Prismo UniMax® MOCVD 设备......19
图32: CVD 传输和反应步骤图.....20
图33: LPCVD 反应流程图.......21
图34:等离子体辅助CVD 中膜的形成......21
图35: PECVD 反应系统流程图 .... 21
图36:各类CVD 反应技术及主要特点 ...... 21
图37: ALD 技术反应原理 ..... 22
图38:溅射技术反应原理图 ....... 22
图39: PVD、CVD 及 ALD 成膜效果简示 ..... 22
图40: CVD 和 PVD 技术对比 ...... 23
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